Chất nào sau đây được dùng để khắc chữ lên thủy tinh?
A. HCl
B. HI
C. HF
D. HBr
Dung dịch HF được dùng để khắc chữ vẽ hình lên thủy tinh nhờ phản ứng với chất nào sau đây?
A. Si
B. H2O
C. K
D. SiO2
Dung dịch HF được dùng để khắc chữ vẽ hình lên thủy tinh nhờ phản ứng với chất nào sau đây?
A. Si
B. H2O
C. K
D. SiO2
Đáp án D
Dung dịch HF được dùng để khắc chữ vẽ hình lên thủy tinh nhờ phản ứng với SiO2 có trong thủy tinh:
S i O 2 + 4 H F → S i F 4 + H 2 O
Dãy aixt nào sau đây được sắp xếp đúng theo thứu tự tính axit giảm dần:
A. HCl, HBr, HI, HF.
B. HBr, HI, HF, HCl.
C. HI, HBr, HCl, HF.
D. HF, HCl, HBr, HI.
Qqq qjjwwkldnhcuknocZcz nf
Dãy axit nào sau đây sắp xếp đúng theo thứ tự giảm dần tính axit ?
A. HI > HBr > HCL > HF B. HF > HCL > HBr > HI.
C. HCL > HBr > HI > HF. D. HCl > HBr > HF > HI
Dung dịch chất nào sau đây được dùng để khắc hình, khắc chữ lên thủy tinh?
A. HCl.
B. HBr.
C. HI.
D. HF.
Khi đổ dung dịch AgNO 3 vào dung dịch chất nào sau đây sẽ thu được kết tủa màu vàng đậm nhất ?
A. Dung dịch HF. B. Dung dịch HCL.
C. Dung dịch HBr. D. Dung dịch HI.
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc
NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
(1) Đúng
(2) Đúng
(3) Sai vì chỉ đúng với NaCl,NaF
(4) Sai vì AgF tan
(5) Đúng
(6) Đúng
(7) Đúng
(8) Sai vì phải có màng ngăn
Bài 1: Dãy aixt nào sau đây được sắp xếp đúng theo thứu tự tính axit giảm dần:
A. HCl, HBr, HI, HF.
B. HBr, HI, HF, HCl.
C. HI, HBr, HCl, HF.
D. HF, HCl, HBr, HI.
dãy axit được sắp xếp đúng theo thứ tự tính axit giảm dần :
a) HCl, HBr , HI , HF
chọn C vì tính khử (hay tính axit) ngược với tính OXH.
tức F2 > Cl2 > Br2 > I2 thì HF < HCl < HBr < HI hay HI > HBr > HCl > HF.
1. trong các hiđrohalogenua, tính khử tăng theo thứ tự sau:
a) HF<HCl<HBr<HI b) HCL<HI<HBR<HF
c) HF<HBR<HCL<HI d) HI< HBr<HCL<HF
2.sắp xếp giảm tính axit các axit halogen hidic như sau:
a) HI>HBR>HCL>HF b) HF>HCl>HBr>HI c) HCL>HI>HBR>HF d) HF>HBR>HCL>HI
3. Trong nhóm halogen tính oxi hóa tăng theo thứ tự
a) F2<BR2<CL2<I2 b) F2<CL2<BR2<I2 c) I2<CL2<F2<BR2 d) I2<BR2<CL2<F2
1.Trong các hiđrohalogenua, tính khử tăng theo thứ tự sau:
a) HF<HCl<HBr<HI
b) HCL<HI<HBR<HF
c) HF<HBR<HCL<HI
d) HI< HBr<HCL<HF
2) A
Do nguyên tử I có bán kính lớn nhất trong các halogen nên liên kết H-I là dài nhất trong các liên kết H-X của hidro halogenua \(\rightarrow\) Liên kết dễ bị phá vỡ nhất vì vùng xen phủ ở xa hạt nhân nhất\(\rightarrow\) H trong HI dễ dàng bị tách ra tạo ion H+. Vậy HI có tính axit mạnh nhất.
3) D
Trong nhóm halogen, flo có độ âm điện lớn nhất nên dễ dàng hút e về phía mình tạo ion F-. Vậy F2 có tính oxh lớn nhất.