Đáp án C
Để làm sạch cát bám trên bề mặt vật dụng kim loại, có thể dùng dung dịch HF do SiO2tan được tong HF
SiO2 + 4HF → SiF4 + 2H2O.
Dựa vào tính chất này, người ta còn dùng dung dịch HF để khắc chữ và hình lên thủy tinh
Người ta thường dùng cát (SiO2) để chế tạo khuôn đúc kim loại. Để làm sạch hoàn toàn những hạt cát bám trên bề mặt vật dụng làm bằng kim loại có thể dùng hóa chất nào dưới đây ?
A. dd H2SO4 loãng.
B. dd HNO3 loãn.
C. dd HF.
D. dd NaOH loãng.
Người ta thường dùng cát (SiO2) để chế tạo khuôn đúc kim loại. Để làm sạch hoàn toàn những hạt cát bám trên bề mặt vật dụng làm bằng kim loại có thể dùng hóa chất nào dưới đây ?
A. dd H2SO4 loãng.
B. dd HNO3 loãn.
C. dd HF.
D. dd NaOH loãng.
Người ta thường dùng cát (SiO2) làm khuôn đúc kim loại. Để làm sạch hoàn toàn những hạt cát bám trên bề mặt vật dụng làm bằng kim loại có thể dùng dung dịch nào sau đây?
A. Dung dịch HCl.
B. Dung dịch HF.
C. Dung dịch NaOH loãng.
D. Dung dịch H2SO4.
Người ta thường dùng cát (SiO2) làm khuôn đúc kim loại. Để làm sạch hoàn toàn những hạt cát bám trên bề mặt vật dụng làm bằng kim loại có thể dùng dung dịch nào sau đây?
A. dung dịch HCl.
B. dung dịch HF.
C. dung dịch NaOH loãng.
D. dung dịch H2SO4.
Người ta thường dùng cát (SiO2) làm khuôn đúc kim loại. Để làm sạch hoàn toàn những hạt cát bám trên bề mặt vật dụng làm bằng kim loại có thể dùng dung dịch nào sau đây?
A. Dung dịch HF
B. Dung dịch HCl
C. Dung dịch NaOH loãng
D. Dung dịch H2SO4
Cho các dd loãng: (1) FeC13, (2) FeCl2, (3) H2SO4, (4) HNO3, (5) hh gồm HC1 và NaNO3. Những dd pư được với kim loại Cu 1à:
A. (1), (3), (5).
B. (1), (2), (3).
C. (1), (3), (4).
D. (1), (4), (5).
Nhận định nào sau đây đúng?
(1) Dùng CaCO3 làm chất chảy loại bỏ SiO2 trong luyện gang.
(2) Dùng Mg để chế tạo các hợp kim nhẹ và bền như Đuyra,…
(3) Mg cháy trong khí quyển khí CO2.
(4) Không dùng MgO để điện phân nóng chảy điều chế Mg.
(5) Dùng cát để dập tắt đám cháy có mặt Mg
A. (1), (2), (3), (5).
B. (2), (3), (5)
C. (1), (2), (3), (4).
D. (2), (3), (4).
Hỗn hợp X gồm 2 kim loại R 1 và R 2 có hóa trị x, y không đổi ( R 1 , R 2 không tác dụng được với nước và đứng trước Cu trong dãy điện hóa). Cho hỗn hợp X phản ứng hoàn toàn với dd H N O 3 loãng dư được 1,12 lit khí NO là sản phẩm khử duy nhất (đkc). Nếu cho lượng hỗn hợp X trên phản ứng hoàn toàn với dd H N O 3 thì thể tích N 2 thu được ở đktc là
A. 0,448 L
B. 0,672 L
C. 0,336 L
D. 0,224 L
Hỗn hợp X gồm 2 kim loại R1 và R2 có hóa trị x, y không đổi (R1, R2 không tác dụng được với nước và đứng trước Cu trong dãy điện hóa). Cho hỗn hợp X phản ứng hoàn toàn với dd HNO3 loãng dư được 1,12 lit khí NO là sản phẩm khử duy nhất (đkc). Nếu cho lượng hỗn hợp X trên phản ứng hoàn toàn với dd HNO3 thì thể tích N2 thu được ở đktc là
A. 0,336 L
B. 0,224 L
C. 0,672 L
D. 0,448 L
