Khi hòa tan mỗi hydrogen halide HF, HCl, HBr và HI vào nước thì thu được các dung dịch hydrohalic acid. Dung dịch nào có tính acid yếu nhất? Vì sao?
Khi hòa tan mỗi hydrogen halide HF, HCl, HBr và HI vào nước thì thu được các dung dịch hydrohalic acid. Dung dịch nào có tính acid yếu nhất? Vì sao?
- Tính acid phụ thuộc vào khả năng tách H của acid. Phân tử nào càng dễ tách H thì tính acid càng mạnh
- Trong nhóm halogen, từ F đến I có độ âm điện giảm dần
=> Khả năng liên kết H-X giảm dần
=> Khả năng tách H trong HX tăng dần
=> Tính acid tăng dần
=> Dung dịch HF có tính acid yếu nhất
Cho các phát biểu sau:
1. Trong các phản ứng oxi hóa khử mà oxi tham gia thì oxi chỉ thể hiện tính oxi hóa.
2. HF là axit rất mạnh vì có khả năng ăn mòn thủy tinh.
3. Từ HF → HCl → HBr → HI tính khử tăng dần còn tính axit giảm dần.
4. Trong công nghiệp nước javen được điều chế bằng cách sục Cl2 vào dung dịch NaOH.
5. HClO là chất oxi hóa mạnh đồng thời cũng là một axit mạnh.
Số phát biểu đúng là:
A. 3
B. 1
C. 2
D. 4
Chọn đáp án B
1. Đúng.
2. Sai.HF là axit rất yếu.Ăn mòn thủy tinh là tính chất riêng có.
3. Sai.Tính khử và tính axit tăng dần
4. Sai điều chế bằng điện phân dung dịch NaCl không có màng ngăn.
5. Sai HClO là axit rất yếu
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc
NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
(1) Đúng
(2) Đúng
(3) Sai vì chỉ đúng với NaCl,NaF
(4) Sai vì AgF tan
(5) Đúng
(6) Đúng
(7) Đúng
(8) Sai vì phải có màng ngăn
Viết PTHH chứng minh : a, tính oxi hoá của các halogen giảm dần từ F2 đến I2 b, HCL vừa có tính khử , vừa có tính oxi hoá c, HF có khả năng ăn mòn thuỷ tinh
a)
- F2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thấp, trong bóng tối
\(H_2+F_2\underrightarrow{-252^oC}2HF\)
- Cl2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thường, có ánh sáng
\(H_2+Cl_2\underrightarrow{as}2HCl\)
- Br2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao
\(Br_2+H_2\underrightarrow{t^o}2HBr\)
- I2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao, có xúc tác
\(I_2+H_2\xrightarrow[Pt]{350-500^oC}2HI\)
=> Tính oxh giảm dần từ F2 đến I2
b)
- HCl có tính khử: \(MnO_2+4HCl\rightarrow MnCl_2+Cl_2+2H_2O\)
- HCl có tính oxh: \(Fe+2HCl\rightarrow FeCl_2+H_2\)
c)
- \(SiO_2+4HF\rightarrow SiF_4+2H_2O\)
Trong các mệnh đề sau, có bao nhiêu mệnh đề đúng:
(I). HI là chất có tính khử, có thể khử được H2SO4 đến H2S.
(II). Nguyên tắc điều chế Cl2 là khử ion Cl- bằng các chất như KMnO4, MnO2, KClO3…
(III). Để điều chế oxi có thể tiến hành điện phân các dung dịch axit, bazơ, muối như H2SO4, HCl, Na2SO4, BaCl2…
(IV). Lưu huỳnh tà phương và đơn tà là hai dạng đồng hình của nhau.
(V). HF vừa có tính khử mạnh, vừa có khả năng ăn mòn thuỷ tinh.
(VI). Ở nhiệt độ cao, N2 có thể đóng vai trò là chất khử hoặc chất oxi hóa.
(VII). Dung dịch Na2SO3 có thể làm mất màu nước brom.
A. 3.
B. 6.
C. 4.
D. 5.
Đáp án A
(II).Sai. Nguyên tắc điều chế Cl2 là OXH ion Cl-
(III). Sai.Điều chế oxi người ta điện phân H2O việc cho thêm (NaOH,H2SO4) vào chỉ để làm mồi đồng thời tăng khả năng dẫn điện.
(IV). Sai.Là hai dạng thù hình của nhau.
(V). Sai.HF không có tính khử mạnh.
Tại sao thuỷ tinh (thành phần chính là SiO2) không bị ăn mòn bởi những axit mạnh như H2SO4 HCl thậm chí là nước cường thuỷ,... mà lại bị ăn mòn bởi một axit yếu như HF?
HF là axit yếu nhưng hòa ta được oxit axit SiO2, còn các axit mạnh như H2SO4 HCl thậm chí là nước cường thuỷ.... lại không hòa tan đươc.Ví dụ:So sánh 2 phản ứng sau:
4HF + SiO2 ----> SiF4 + 2H2O (1)
4HCl + SiO2 ---> SiCl4 + 2H2O (2)
Năng lượng của phản ứng (1) là -920kJ (thấp), nhưng của phản ứng (2) là +54kJ.
Do đó phản ứng (1) xảy ra. ( phản ứng xảy ra theo chiều tạo năng lượng thấp)
Nguyên nhân chính của sự khác nhau này là do năng lượng liên kết Si-F (540 kJ/mol) trong SiF4 lớn hơn nhiều so với năng lượng liên kết Si-Cl (360 kJ/mol) trong SiCl4.
Cho dãy dung dịch axit sau HF, HCl, HBr, HI. Dung dịch có tính axit mạnh nhất và tính khử mạnh nhất là:
A. HF
B. HCl
C. HBr
D. HI
Các dung dịch sau đây có cùng nồng độ 0,1 mol/l, dung dịch nào dẫn điện kém nhất ?
A. HCl.
B. HF.
C. HI.
D. HBr.
Cho các nhận định sau:
(a) Các thiết bị máy móc bằng sắt tiếp xúc với hơi nước ở nhiệt độ cao có khả năng bị ăn mòn hóa học.
(b) Cho Cu vào dung dịch FeCl3 dư, thu được dung dịch chứa 3 muối.
(c) Nhúng thanh Ni nguyên chất vào dung dịch chứa HCl và FeCl3 sẽ xảy ra ăn mòn điện hóa.
(d) Cho lá đồng nguyên chất vào dung dịch gồm Fe(NO3)3 và HNO3 sẽ xảy ra hiện tượng ăn mòn điện hóa.
Số nhận định đúng là
A. 2.
B. 3.
C. 4.
D. 1.
Đáp án A
(a) Các thiết bị máy móc bằng sắt tiếp xúc với hơi nước ở nhiệt độ cao có khả năng bị ăn mòn hóa học.
(b) Cho Cu vào dung dịch FeCl3 dư, thu được dung dịch chứa 3 muối.
Cho các nhận định sau:
(a) Các thiết bị máy móc bằng sắt tiếp xúc với hơi nước ở nhiệt độ cao có khả năng bị ăn mòn hóa học.
(b) Cho Cu vào dung dịch FeCl3 dư, thu được dung dịch chứa 3 muối.
(c) Nhúng thanh Ni nguyên chất vào dung dịch chứa HCl và FeCl3 sẽ xảy ra ăn mòn điện hóa.
(d) Cho lá đồng nguyên chất vào dung dịch gồm Fe(NO3)3 và HNO3 sẽ xảy ra hiện tượng ăn mòn điện hóa.
Số nhận định đúng là
A. 2.
B. 3.
C. 4.
D. 1.