C

R nằm ở chu kỳ 3 nên lớp electron ngoài cùng là lớp thứ 3. Mặt khác, R thuộc phân nhóm chính nhóm VA nên nguyên tử R có 5 electron ở lớp ngoài cùng. Vậy cấu hình lớp electron ngoài cùng của R là 3 s 2 3 p 3 .

Cấu hình electron của R là 1 s 2 2 s 2 2 p 6 3 s 2 3 p 3

R thuộc nhóm V nên hóa trị cao nhất của R trong oxit là V. Công thức oxit là R 2 O 5 .

Theo giả thiết : %m_R = 43,66%

Tổng số hạt electron = tổng số hạt proton = 15 (dựa vào cấu hình electron).

Một cách gần đúng coi số khối xấp xỉ nguyên tử khối.

Tổng số hạt nơtron = 31 -15 = 16.

Đáp án D

Hướng dẫn R thuộc nhóm V nên hóa trị cao nhất của R trong oxit là V. Công thức oxit là R₂O₅

Theo bài: %R = 43,66% nên  ® R = 31 (photpho)

Tổng số hạt electron = tổng số hạt proton = 15 (dựa vào cấu hình electron)

Tổng số hạt nơtron = 31 -15 = 16

Nguyên tố R chiếm 53,33% có nghĩa là

\(\dfrac{2.16}{R+2.16}.100\%=53,333\%\\ \Rightarrow\dfrac{32}{32+R}=0\text{=> 32 = 17 , 0656 + 0 , 5333 R }\) 

\(\Rightarrow R=28\\ \Rightarrow R.là.Silic\left(Si\right)\)

Đáp án D

Oxit của R là R₂O₅ => R thuộc nhóm V_A . Hợp chất của R với hiđro có công thức: RH₃

 => R là Asen (As)

a)

Do R thuộc nhóm VA

=> CTHH của R và H là: RH₃

Có \(\dfrac{3}{M_R+3}.100\%=17,64\%=>M_R=14\left(g/mol\right)\)

=> R là N

b) Do CTHH của R và H là RH₃

=> oxit cao nhất của R là R₂O₅

Có: \(\dfrac{16.5}{2.M_R+16.5}.100\%=74,07\%=>M_R=14\left(g/mol\right)\)

=> R là N

RH₃ => a=3 => b=8-3=5

R₂O5

%R₂O5 = 80*100=(2R+80)*74,08 => R=14 =>R=Si